大口径干法刻蚀设备

用于大尺寸基材的干法刻蚀系统，采用RBE干法刻蚀系统，融合IBE物理刻蚀与RE化学刻蚀优势，稳定高效，适用于硅基、石英聚酰亚胺、光刻胶、金属等材料的微纳结构刻蚀制程，具有刻蚀速率稳定，一致性好，维护周期长等特点。

分类：

关键词：

微纳加工

电话

详情

｜尺寸：Φ2000mm
｜刻蚀材料：石英、硅、金属、光刻胶等一切材料
｜刻蚀均匀性：2%~8%（光刻胶）
｜刻蚀速率：50nm~500nm/min真空度（极限）：5x10^-4Pa
｜气路MFC：标配6种气体，耐腐蚀±0.5%FSI
｜刻蚀表面粗糙增加值：优于0.2nm

上一个：无

下一个：无

相关产品

在线留言

Online
Message

如果您对我公司有建议或反馈，请在此页面填写相关信息并提交，会有工作人员及时与您联系，或请直接拨打我们的电话。

电话

公司地址：成都市双流区黄甲街道物联西街118号康博研发楼1楼博腾实达

公众号

营业执照