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我公司设计了基于动态旋覆技术的大口径清洗显影一体机,设备型号为Inula DCC-2000。该设备主要用于口径1050mm×1050mm及其以下的基片的显影工艺。
一、设备可实现的工艺:
本设备采用动态旋覆技术,通过高精度流量控制、特殊的流涂覆方式、基片转动模式与基片相对位置的调整、显影及终止显影的切换方式等技术,有效保证大口径基片显影线宽的一致性。
二、设备主要参数及功能:
1.设备可适应于石英、光学玻璃、硅片的基片,尺寸兼容1050mm×1050mm及其以下的方形基片或圆片,基片最大允许厚度8 mm;
2.设备显影后,对线宽为10um和5um的微结构,图形线宽不一致性≤5%;
3.设备配置pH值检测器;
4.设备存储罐配置液位传感器;
5.具有过滤回收功能,显影液能够被过滤回收,并储存到指定的容器里;
6.设备上下基片方式全自动化;
7.配置基片存储架,可存放4片基片;
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