大口径薄膜沉积设备

使用电阻电子束或复合离子溅射系统制备大口径、高均匀性基底薄膜。电阻电子束沉积可优先用于沉积微米级的精密光学薄膜，使用磁控溅射可制备功能性的耐机械损伤的复合薄膜等，用磁过滤溅射可制备表面质量优异的精密光学薄膜，能够满足大尺寸、高光学均匀性复合薄膜工艺需求。

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