大口径干法刻蚀设备

用于大尺寸基材的干法刻蚀系统，采用RBE干法刻蚀系统，融合IBE物理刻蚀与RE化学刻蚀优势，稳定高效，适用于硅基、石英聚酰亚胺、光刻胶、金属等材料的微纳结构刻蚀制程，具有刻蚀速率稳定，一致性好，维护周期长等特点。