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运用自主知识产权的动态旋覆技术,创新显影工艺,超越传统喷淋、浸泡、涂布等显影工艺方法,确保大尺寸显影的均匀性,满足大面积、高深宽比、灰度曝光及厚膜等高需求。
分类:
大尺寸显影设备
关键词:
微纳加工
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|尺寸:Φ2000mm
|膜层厚度:10nm-20um(适用2D、3D结构)
|适用线宽:≥0.5um
|不一致性:5um,≤士3%
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