大口径匀胶设备

大尺寸显影设备

大口径薄膜沉积设备

大口径干法刻蚀设备

大口径清洗设备

大口径元器件真空烘箱设备

大口径匀胶设备

特有的扰流控制气动设计与高精度供胶工艺，确保大尺寸基材匀胶均匀且胶层厚度精准可控。针对方形及其他形状大尺寸基材，我们提供包括涂布在内的多样化匀胶解决方案。

大口径显影设备

运用自主知识产权的动态旋覆技术，创新显影工艺，超越传统喷淋、浸泡、涂布等显影工艺方法，确保大尺寸显影的均匀性，满足大面积、高深宽比、灰度曝光及厚膜等高需求。

大口径薄膜沉积设备

使用电阻电子束或复合离子溅射系统制备大口径、高均匀性基底薄膜。电阻电子束沉积可优先用于沉积微米级的精密光学薄膜，使用磁控溅射可制备功能性的耐机械损伤的复合薄膜等，用磁过滤溅射可制备表面质量优异的精密光学薄膜，能够满足大尺寸、高光学均匀性复合薄膜工艺需求。

大口径干法刻蚀设备

用于大尺寸基材的干法刻蚀系统，采用RBE干法刻蚀系统，融合IBE物理刻蚀与RE化学刻蚀优势，稳定高效，适用于硅基、石英聚酰亚胺、光刻胶、金属等材料的微纳结构刻蚀制程，具有刻蚀速率稳定，一致性好，维护周期长等特点。

大口径清洗设备

专为大尺寸基材设计，支持定制多槽、单槽超声波及干湿混合清洗平台，灵活应对各类复杂工艺清洗需求。

大口径元器件真空烘箱设备

用于大尺寸基材在工艺过程中干燥的真空烘箱或非接触式加热烘干热板。